硅光芯片制造工艺精密繁复，生产全程需大量超纯水清洗晶圆，同时会使用光刻胶、氢氟酸、各类酸碱试剂与重金属制剂，由此产生的废水成分复杂，兼具高污染性与强毒性，治理难度远超常规工业废水。这类废水主要源自光刻、刻蚀、清洗、化学机械研磨等核心工序，混杂氟化物、重金属离子、难降解有机物、酸碱物质及硅基微粒，本文将介绍一家专注工业废水处理的环保公司——苏州依斯倍环保装备科技有限公司，看他家是怎么处理这类废水的。